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光衰減器反射

簡(jiǎn)要描述：光衰減器反射基于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）的動(dòng)態(tài)可調(diào)光衰減器(Dynamic Variable Optical Attenuator——簡(jiǎn)稱DVOA)是實(shí)現(xiàn)全光網(wǎng)中功率調(diào)節(jié)的重要元件。

產(chǎn)品型號(hào)：ZG
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-12-25
訪問量：1151

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光衰減器系列

EVOA SFP VOA 多通道衰減器模塊高速光衰減器臺(tái)式可調(diào)光衰減器手持式光衰減器 MEMS光衰減器機(jī)械式光衰減器

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詳細(xì)介紹

品牌	梓冠	價(jià)格區(qū)間	1-500
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,能源,電子/電池,電氣,綜合
波長(zhǎng)	1260~1650nm

一、簡(jiǎn)介

光衰減器反射基于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）的動(dòng)態(tài)可調(diào)光衰減器(Dynamic Variable Optical Attenuator——簡(jiǎn)稱DVOA)是實(shí)現(xiàn)全光網(wǎng)中功率調(diào)節(jié)的重要元件。 DVOA能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)全光網(wǎng)的全面遠(yuǎn)程控制。主要應(yīng)用在：預(yù)置光功率均衡、信道傳輸均衡、光自動(dòng)增益調(diào)節(jié)、光接收器的保護(hù)等。我公司研發(fā)的DVOA產(chǎn)品，采用了MEMS控制芯片及光學(xué)設(shè)計(jì)，使產(chǎn)品更加小型化，成本更低，并且反應(yīng)更加迅速，具有更高的穩(wěn)定性和可靠性，易于制造。

特性	應(yīng)用
高可靠性	傳輸光功率高
高穩(wěn)定性	光路功率平衡
低插入損耗	信道傳輸均衡
反應(yīng)迅速	光自動(dòng)增益調(diào)節(jié)
體積小	光接收機(jī)的保護(hù)
	光路通斷

二、光衰減器反射性能指標(biāo)

參數(shù)	單位	指標(biāo)	備注
波長(zhǎng)范圍	nm	1260-1650nm	校準(zhǔn)波長(zhǎng)1310nm/1550
衰減類型		常開或常閉
衰減范圍	dB	≥30
最大衰減范圍	dB	≥45
插入損耗	dB	≤0.7 (0.5 典型)	不含連接頭損耗
衰減類型		連續(xù)
波長(zhǎng)相關(guān)損耗	dB	≤0.1	在0dB測(cè)試
波長(zhǎng)相關(guān)損耗	dB	≤1	在20dB測(cè)試
紋波	dB	≤0.05	0.4nm 帶寬在20dB測(cè)試
偏振相關(guān)損耗	dB	≤0.1	在0dB測(cè)試
偏振相關(guān)損耗	dB	≤1	在20dB測(cè)試
溫度相關(guān)損耗	dB	≤0.15	在0dB測(cè)試比較
溫度相關(guān)損耗	dB	≤1	在20dB測(cè)試比較
回波損耗	dB	≥55
PMD	ps	≤0.5
響應(yīng)時(shí)間	ms	≤2 (1 典型)	10-90% 光功率
傳輸光功率	mW	300
驅(qū)動(dòng)電壓	VDC	6 V	在5.2v 典型是40db
功耗	mW	≤2
工作溫度	oC	0 to 70
貯藏溫度	oC	-40 to 85

三、訂貨信息

ZG	VOA	端口	工作波長(zhǎng)	光纖類型	光纖長(zhǎng)度	連接頭
	1=常閉 2=常開	0101=1X1	10=1060nm 13=1310nm 15=1550nm 16=1625nm X=other	1=裸光纖	1=1米	0=None
						1=FC/APC
						2= FC/PC
				2=900um光纖		3=SC/APC
						4=SC/PC
						5=ST
						6=LC
		XX=other		XX=other		XX=other

四川梓冠光電科技有限公司致力于光通信產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，是一家集研究、開發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高科技企業(yè)。位于中國(guó)科技城——綿陽，旗下?lián)碛凶庸尽癱ofiber"。公司擁有*光器件生產(chǎn)工藝和設(shè)備，擁有一批經(jīng)驗(yàn)豐富的工程技術(shù)人員和生產(chǎn)員，并與北美幾家光通訊公司及中國(guó)的光通訊研究機(jī)構(gòu)合作，不斷地開發(fā)新的生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品，使產(chǎn)品工藝得到不斷完善，努力成為國(guó)內(nèi)大規(guī)模生產(chǎn)無源光學(xué)器件和有源生產(chǎn)的基地。